求教两个process engineer问题# EE - 电子工程
e*t
1 楼
现在的保险200刀的Deductible，10%的copay，两项检查最后大概要多少钱的？
最近有可能回国的，犹豫是不是回国去作
EEG和MRI国内能有美国这边作的好吗？
最近有可能回国的，犹豫是不是回国去作
EEG和MRI国内能有美国这边作的好吗？
c*t
2 楼
随着演出阵容的逐渐丰满，由华纳公司投拍的真人版《阿基拉》即将进入实际操作阶段
。最新消息是，《暮光之城》女主角克里斯汀·斯图尔特可能加盟本片，出演女主角。
克里斯汀·斯图尔特出演的角色将是原作中的K，反政府组织的一员，同时会与主
角金田发生爱情关系。之前的消息是凯拉·奈特莉或会担任此角，而如今则更偏向克里
斯汀·斯图尔特。
影片将由《孤儿》和《不明身份》的导演佐米·希尔拉执导，《创：战纪》男主角
加内特·赫德兰饰演原作中“飞车党金田”一角。另外，加里·奥德曼将出演研究机构
最高指挥官上校，海伦娜·伯翰·卡特则会出演原作中在40名孩子中的编号19号，拥有
预知未来能力的宫子夫人。
另一位重要男主角“铁雄”尚未选定合适的人选，安德鲁·加菲尔德、詹姆斯·麦
卡沃伊、罗伯特·帕丁森等当红男星都曾在华纳的考虑范围之内，但具体人选尚未敲定。
《阿基拉》是著名漫画大师大友克洋的代表作，1988年由他亲自监督并执导将漫画
搬上银幕。故事的主人公是两位飞车党少年铁男和金田，铁男因为一起意外事故开启了
自身的超常神秘力量，足以和军队抗衡。他开始疯狂的按照自己的意志来做想做的事情
，并一心想找到所有秘密的关键所在——阿基拉，可他没有料到这种可怕的无法控制的
力量最终也将他送上了毁灭之路。
本片预计在2012年的2月末或者3月初开机拍摄。
。最新消息是，《暮光之城》女主角克里斯汀·斯图尔特可能加盟本片，出演女主角。
克里斯汀·斯图尔特出演的角色将是原作中的K，反政府组织的一员，同时会与主
角金田发生爱情关系。之前的消息是凯拉·奈特莉或会担任此角，而如今则更偏向克里
斯汀·斯图尔特。
影片将由《孤儿》和《不明身份》的导演佐米·希尔拉执导，《创：战纪》男主角
加内特·赫德兰饰演原作中“飞车党金田”一角。另外，加里·奥德曼将出演研究机构
最高指挥官上校，海伦娜·伯翰·卡特则会出演原作中在40名孩子中的编号19号，拥有
预知未来能力的宫子夫人。
另一位重要男主角“铁雄”尚未选定合适的人选，安德鲁·加菲尔德、詹姆斯·麦
卡沃伊、罗伯特·帕丁森等当红男星都曾在华纳的考虑范围之内，但具体人选尚未敲定。
《阿基拉》是著名漫画大师大友克洋的代表作，1988年由他亲自监督并执导将漫画
搬上银幕。故事的主人公是两位飞车党少年铁男和金田，铁男因为一起意外事故开启了
自身的超常神秘力量，足以和军队抗衡。他开始疯狂的按照自己的意志来做想做的事情
，并一心想找到所有秘密的关键所在——阿基拉，可他没有料到这种可怕的无法控制的
力量最终也将他送上了毁灭之路。
本片预计在2012年的2月末或者3月初开机拍摄。
F*C
3 楼
拿了个graduate degree in business，想考CPA，还差两门课：auditing和taxation,
问了当地大学的商学院，不给graduate non-degree admission,没法修课。
请问各位达人知道我该去哪里修这两门graduate level的课吗？
多谢！
问了当地大学的商学院，不给graduate non-degree admission,没法修课。
请问各位达人知道我该去哪里修这两门graduate level的课吗？
多谢！
b*c
4 楼
Dear all:
Would someone please find an electronic article for me?
"Boronic acids as fructose sensors. Structure determination of the complexes
involved using 1JCC coupling constants
Authors: Jens Chr. Norrild and Hanne Eggert
J. Chem. Soc., Perkin Trans. 2, 1996, 2583 - 2588,
DOI: 10.1039/P29960002583"
My email address is b******[email protected]
Thank you very much!
Would someone please find an electronic article for me?
"Boronic acids as fructose sensors. Structure determination of the complexes
involved using 1JCC coupling constants
Authors: Jens Chr. Norrild and Hanne Eggert
J. Chem. Soc., Perkin Trans. 2, 1996, 2583 - 2588,
DOI: 10.1039/P29960002583"
My email address is b******[email protected]
Thank you very much!
r*e
5 楼
不知道在这里发合不合适，lz小白，求指教：）
1. Which direction has slowest etch rate for Si? Why
2. Why you do not want H in RIE?
1. Which direction has slowest etch rate for Si? Why
2. Why you do not want H in RIE?
T*R
6 楼
这个问题要这么看：
1，回去肯定便宜.这边看，你自己出到大几百块都是可能的。
2，如果你回去做了检查，结果正常，那么一切over，恭喜你，省了钱了
3, 如果检查结果不正常，那就麻烦了。你的检查报告这里的医生不一定认， 很有可
能让你重新做检查。
1，回去肯定便宜.这边看，你自己出到大几百块都是可能的。
2，如果你回去做了检查，结果正常，那么一切over，恭喜你，省了钱了
3, 如果检查结果不正常，那就麻烦了。你的检查报告这里的医生不一定认， 很有可
能让你重新做检查。
p*6
7 楼
这个女演员是少有几个电影剧照比生活照丑的。
y*3
8 楼
community college?
a*n
9 楼
ready
s*y
10 楼
111
H can go deep in Si
【在 r**********e 的大作中提到】
: 不知道在这里发合不合适，lz小白，求指教：）
: 1. Which direction has slowest etch rate for Si? Why
: 2. Why you do not want H in RIE?
H can go deep in Si
【在 r**********e 的大作中提到】
: 不知道在这里发合不合适，lz小白，求指教：）
: 1. Which direction has slowest etch rate for Si? Why
: 2. Why you do not want H in RIE?
e*t
11 楼
06年在国内就做过一次MRI的，北医三院做的，未见明显异常
那些片子上次见大夫的时候没拿，不过应该能找到的
这个有重做的必要吗？
【在 T*R 的大作中提到】
: 这个问题要这么看：
: 1，回去肯定便宜.这边看，你自己出到大几百块都是可能的。
: 2，如果你回去做了检查，结果正常，那么一切over，恭喜你，省了钱了
: 3, 如果检查结果不正常，那就麻烦了。你的检查报告这里的医生不一定认， 很有可
: 能让你重新做检查。
那些片子上次见大夫的时候没拿，不过应该能找到的
这个有重做的必要吗？
【在 T*R 的大作中提到】
: 这个问题要这么看：
: 1，回去肯定便宜.这边看，你自己出到大几百块都是可能的。
: 2，如果你回去做了检查，结果正常，那么一切over，恭喜你，省了钱了
: 3, 如果检查结果不正常，那就麻烦了。你的检查报告这里的医生不一定认， 很有可
: 能让你重新做检查。
F*C
12 楼
community college都不提供graduate level的课啊。
【在 y*******3 的大作中提到】
: community college?
【在 y*******3 的大作中提到】
: community college?
r*e
13 楼
多谢，111是因为这个面上原子密度最大吗?
H是指氢气？最破坏深层Si结构？求详解
【在 s*******y 的大作中提到】
: 111
: H can go deep in Si
H是指氢气？最破坏深层Si结构？求详解
【在 s*******y 的大作中提到】
: 111
: H can go deep in Si
w*0
14 楼
不上graduate level的accounting也可以，只要本州的board of accountancy承认就行
了。
【在 F****C 的大作中提到】
: community college都不提供graduate level的课啊。
b*d
15 楼
嗯，你看一下晶格图就懂了
第二个问题不知道，感觉不对啊，理论我没想过，不过实际操作的时候，SF6,CF4也可
以用来etch啊，没有用到H啊，你确定你没弄错？
【在 r**********e 的大作中提到】
: 多谢，111是因为这个面上原子密度最大吗?
: H是指氢气？最破坏深层Si结构？求详解
第二个问题不知道，感觉不对啊，理论我没想过，不过实际操作的时候，SF6,CF4也可
以用来etch啊，没有用到H啊，你确定你没弄错？
【在 r**********e 的大作中提到】
: 多谢，111是因为这个面上原子密度最大吗?
: H是指氢气？最破坏深层Si结构？求详解
F*C
16 楼
Update:问了官方,说本科的课程也可以.我以为如果是本科课程,就要30学分本科,如果是研究生课程,就要18学分研究生课程,不可以mix呢....谢谢!!!
==========
谢谢提醒！
打算去问问官方了。
我查了查本州的规定：
Received a graduate degree in business from an institution recognized by
CHEA or accredited by AACSB with 30 semester hours in accounting at the
undergraduate level, or 18 semester hours of accounting at the graduate
level with at least one course in each of the following:
• financial accounting,
• management accounting,
• auditing (Internal auditing may not be used for auditing, but may be
used as an elective),
• taxation, and
• professional ethics and responsibilities.
我有graduate degree in business,有24 semester hours in accounting at
graduate level,但是没有auditing和taxation的课。
不知道按照这个规定，24 semester hours in accounting at graduate level,再加上
6 semester hours in accounting at undergraduate level行不行。。。
【在 w*******0 的大作中提到】
:
: 不上graduate level的accounting也可以，只要本州的board of accountancy承认就行
: 了。
==========
谢谢提醒！
打算去问问官方了。
我查了查本州的规定：
Received a graduate degree in business from an institution recognized by
CHEA or accredited by AACSB with 30 semester hours in accounting at the
undergraduate level, or 18 semester hours of accounting at the graduate
level with at least one course in each of the following:
• financial accounting,
• management accounting,
• auditing (Internal auditing may not be used for auditing, but may be
used as an elective),
• taxation, and
• professional ethics and responsibilities.
我有graduate degree in business,有24 semester hours in accounting at
graduate level,但是没有auditing和taxation的课。
不知道按照这个规定，24 semester hours in accounting at graduate level,再加上
6 semester hours in accounting at undergraduate level行不行。。。
【在 w*******0 的大作中提到】
:
: 不上graduate level的accounting也可以，只要本州的board of accountancy承认就行
: 了。
r*e
17 楼
应该没错吧，在glassdoor看到的问题：）
http://www.glassdoor.com/Interview/GLOBALFOUNDRIES-Senior-Proce
【在 b********d 的大作中提到】
: 嗯，你看一下晶格图就懂了
: 第二个问题不知道，感觉不对啊，理论我没想过，不过实际操作的时候，SF6,CF4也可
: 以用来etch啊，没有用到H啊，你确定你没弄错？
http://www.glassdoor.com/Interview/GLOBALFOUNDRIES-Senior-Proce
【在 b********d 的大作中提到】
: 嗯，你看一下晶格图就懂了
: 第二个问题不知道，感觉不对啊，理论我没想过，不过实际操作的时候，SF6,CF4也可
: 以用来etch啊，没有用到H啊，你确定你没弄错？
a*i
18 楼
http://web.utk.edu/~prack/Thin films/Etching.pdf
H will form HF with fluoride thus reduce etch rate.
【在 r**********e 的大作中提到】
: 应该没错吧，在glassdoor看到的问题：）
: http://www.glassdoor.com/Interview/GLOBALFOUNDRIES-Senior-Proce
H will form HF with fluoride thus reduce etch rate.
【在 r**********e 的大作中提到】
: 应该没错吧，在glassdoor看到的问题：）
: http://www.glassdoor.com/Interview/GLOBALFOUNDRIES-Senior-Proce
r*e
19 楼
I see. So it seems H2 is utilized for controlling the etching rate?
【在 a*******i 的大作中提到】
: http://web.utk.edu/~prack/Thin films/Etching.pdf
: H will form HF with fluoride thus reduce etch rate.
【在 a*******i 的大作中提到】
: http://web.utk.edu/~prack/Thin films/Etching.pdf
: H will form HF with fluoride thus reduce etch rate.
a*i
20 楼
And selectivity
【在 r**********e 的大作中提到】
: I see. So it seems H2 is utilized for controlling the etching rate?
【在 r**********e 的大作中提到】
: I see. So it seems H2 is utilized for controlling the etching rate?
r*e
21 楼
I see. Thanks:)
【在 a*******i 的大作中提到】
: And selectivity
【在 a*******i 的大作中提到】
: And selectivity
c*5
22 楼
I don't understand the second question either, H2 plasma is widely used in
Si RIE as H can control F/C ratio and promote Polymer deposition..Also HBr
is used in Si gate etching by forming SiBr4 volatile , how can you don't
want H in Si RIE?
【在 b********d 的大作中提到】
: 嗯，你看一下晶格图就懂了
: 第二个问题不知道，感觉不对啊，理论我没想过，不过实际操作的时候，SF6,CF4也可
: 以用来etch啊，没有用到H啊，你确定你没弄错？
Si RIE as H can control F/C ratio and promote Polymer deposition..Also HBr
is used in Si gate etching by forming SiBr4 volatile , how can you don't
want H in Si RIE?
【在 b********d 的大作中提到】
: 嗯，你看一下晶格图就懂了
: 第二个问题不知道，感觉不对啊，理论我没想过，不过实际操作的时候，SF6,CF4也可
: 以用来etch啊，没有用到H啊，你确定你没弄错？
o*n
23 楼
Second this
【在 c*********5 的大作中提到】
: I don't understand the second question either, H2 plasma is widely used in
: Si RIE as H can control F/C ratio and promote Polymer deposition..Also HBr
: is used in Si gate etching by forming SiBr4 volatile , how can you don't
: want H in Si RIE?
【在 c*********5 的大作中提到】
: I don't understand the second question either, H2 plasma is widely used in
: Si RIE as H can control F/C ratio and promote Polymer deposition..Also HBr
: is used in Si gate etching by forming SiBr4 volatile , how can you don't
: want H in Si RIE?
a*i
24 楼
我猜是那个人复述的时候记错题了，或者这道题还有什么前提条件
【在 c*********5 的大作中提到】
: I don't understand the second question either, H2 plasma is widely used in
: Si RIE as H can control F/C ratio and promote Polymer deposition..Also HBr
: is used in Si gate etching by forming SiBr4 volatile , how can you don't
: want H in Si RIE?
【在 c*********5 的大作中提到】
: I don't understand the second question either, H2 plasma is widely used in
: Si RIE as H can control F/C ratio and promote Polymer deposition..Also HBr
: is used in Si gate etching by forming SiBr4 volatile , how can you don't
: want H in Si RIE?
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