俄称自研光刻机将于2028年问世，可产出7nm芯片！

科技

2022-10-24 09:10

作者：芯光犬

排版：RedCandy

出品：SOlab

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俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构发表声明，宣布下诺夫哥罗德应用物理研究所（IPF RAS）正在研发俄罗斯第一台半导体光刻设备，并且公布了一项大胆的计划：这套光刻机能够使用 7nm 生产芯片，预计在2028年正式投入生产。

俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构的声明截图图源：搜狐

➢据报道称，俄国计划在6年内做出工业样机，第一阶段在2024年首先研发出α机，并通过大量测试，保证其稳定性。

➢从第二阶段开始，2026年，α机应该被β机取代到那时，所有的系统都将被改善和优化，提高了解析度和生产率，核心工序都会在此过程中确定，未来这一过程将会完全自动化。

➢第三阶段将为光刻机带来更强的光源，改进的定位和进给系统，并使这种光刻系统快速准确地工作。

随着时间的推移，芯片的性能也会越来越好，计算效率也会越来越高。

晶圆光刻机

俄罗斯目前已经可以生产65nm制程的芯片，他们希望在2030年开发28nm制程，希望靠着对外国芯片进行逆向工程，并培养当地半导体人才，达到这一目标。

现在的俄罗斯，依然是世界上最强大的国家之一，虽然苏联的科技人才都被美国挖走了，但是俄罗斯的科技力量仍不容小觑！

美国的科研实力一直处于世界前列，俄罗斯的这一举动，很可能会威胁到美国在科技上遥遥领先的地位，让美国不得不忌惮。

俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，全球光刻机领导者ASML近20年来一直致力于EUV曝光机，目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。

俄罗斯科学院图源：必应

但是俄罗斯不必追随西方国家的步伐，他们只需要满足俄罗斯国内研发的需求就可以了。

目前看来，俄罗斯的2021年战略也明确指出，俄罗斯科技发展的目标是确保国家的技术独立性和竞争力，以实现国家发展目标和实施国家战略优先事项。

ASML公司的光刻机

一些业内人士认为俄罗斯的观点看起来很幼稚，想在6年内研发出可支持7nm芯片的光刻机无异于痴人说梦话，且并非单单靠光刻机就可生产出芯片，还需要许多支持设备，而俄罗斯并不能够生产这些设备。

事实上，半导体产业是一个全球化程度极高的产业，各个国家的厂商都参与其中，共同维护着供应链的稳定。

无论是欧美企业还是日本企业，跨国巨头们都早早在这方面有所积累。

从目前的技术上看，ASML的核心技术来自美国、德国、日本等国家，比如德国的镜片和美国的光源。

光刻机概念图

ASML公司生产的极紫外光刻机配件超过10万个，90%以上都是外包的，由全球各大顶尖企业生产，不是一个企业就能完成的，也不是一个国家能够完成的。

值得一提的是，下诺夫哥罗德代表团还向大家展示了未来光刻设备的演示样品。这套系统基于下诺夫哥罗德的IAP RAS开发、制造和安装。

虽然这还不是设备原型，而是“原型的原型”。不管如何，俄罗斯已经迈出了第一步。要知道在此之前，一台国外设备的售价就已经达到了上亿美元的天价，如果俄罗斯能够达成自己的光刻机目标，则这一次总算是不用再被“卡脖子”了。

不过，这还只是“未来的技术”，想要实现产业化，俄罗斯还有很长的一段路要走。

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（芯光社出品，未经允许严禁转载）

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