清华EUV光刻方案？官方澄清！

来源：内容由半导体行业观察（ID：icbank）转自中国电子院，谢谢。

近期，各大视频平台疯传一条消息

称清华大学EUV项目

把ASML的光刻机巨大化

实现了光刻机国产化

并表示这个项目已经在雄安新区落地

还在视频中配了这样一张图

表示图片中的项目就是光刻厂

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该项目是国产光刻机工厂？

NO！

这是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）！

HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔

是国家“十三五”重大科技基础设施

它是我国第一台高能量同步辐射光源

也是世界上亮度最高的

第四代同步辐射光源之一

早在2019年就开始建设

将于2025年底投入使用

△北京高能同步辐射光源项目实拍图

HEPS是干嘛用的呢？

它的作用是通过加速器

将电子束加速到6GeV

然后注入周长1360米的储存环

用接近光速的速度保持运转

电子束在储存环的不同位置

通过弯转磁铁或者各种插入件时

就会沿着偏转轨道切线的方向

释放出稳定、高能量、高亮度的光

也就是同步辐射光

简单的说

HEPS可以看成是一个

超精密、超高速、具有强大穿透力的

巨型X光机

它产生的小光束

可以穿透物质、深入内部进行立体扫描

从分子、原子的尺度

多维度地观察微观世界

HEPS是进行科学实验的大科学装置

并不是网传的光刻机工厂

该项目由

全国勘察设计大师、

国投集团首席科学家娄宇带队

中国电子院多个技术科研

和设计团队协同合作

从项目可研立项到项目落地

中国电子院攻克了多项技术和工艺难关

解决了项目不均匀沉降、微振动控制、

超长结构设计、光伏板设计、

精密温度控制、工艺循环冷却水系统、

超复杂工艺系统等七大技术难题

实现了重大技术突破

指标控制达到了国际先进水平

目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工

向产生世界最“亮”的光又更近了一步

△点击图片，深入了解北京高能同步辐射光源