佳能发布5nm光刻机，挑战ASML？

在生产最先进的芯片方面，荷兰半导体制造设备制造商 ASML 已经锁定了市场。然而，佳能的新光刻技术可能很快就会挑战这一地位。

周五，这家以其高端相机系统而闻名的日本跨国公司宣布推出一款纳米压印光刻 (NIL) 机器，据称该机器能够生产低至 5 纳米工艺节点的零件。佳能声称，通过进一步改进，它最终可以生产 2 纳米部件。

这将使其与 ASML 的极紫外光刻 (EUV) 套件竞争。这家荷兰供应商是用于制造 7 纳米以下芯片的 EUV 的唯一供应商。也许更诱人的是，佳能的 NIL 技术——不依赖 EUV 应用中使用的复杂光学器件或镜子——可以绕过美国对向中国出口高端芯片制造设备的现有限制。

您可能还记得，美国已向韩国、日本和荷兰等盟友施压，要求其效仿，禁止或限制向中国出售大多数深紫外 (DUV) 和 EUV 机器。

佳能的纳米压印技术的工作原理是将印有电路设计的掩模像印章一样物理地压到芯片硅片的抗蚀剂层上。

“由于其电路图案转移过程不通过光学机制，因此掩模上的精细电路图案可以忠实地复制在晶圆上。因此，可以在单个压印中形成复杂的二维或三维电路图案，”佳能解释说。

这与 ASML 和其他公司使用的光刻技术不同，后者涉及使特定波长的光穿过光掩模以在晶圆上的图案层上蚀刻特征。最终目标是在芯片芯片上制作复杂的高密度电路。

尽管佳能声称其技术可以生产相当于 5 纳米工艺的芯片，但 Gartner 分析师 Gaurav Gupta 仍持怀疑态度。“如果佳能突然实现重大技术突破，我会感到惊讶，”他告诉我们。

他解释说，纳米压印光刻 (NIL) 作为一个概念已经存在了一段时间，但该技术一直受到缺陷、覆盖和吞吐量方面的挑战的困扰。

“我们预计五年内不会产生商业影响，并且主要从存储芯片开始，”他告诉The Register。“与大批量执行和制造准备相比，前沿节点的研发或概念能力存在很大差距，这就是挑战。”

Gupta 表示，到目前为止，有关 NIL 的大部分讨论都集中在它在内存模块生产中的使用。例如，早在 2015 年， SK 海力士就与东芝成立了一家合资企业，开发 NIL 技术。

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