Tsuprem4中什么办法减小LOCOS的Bird's beak的横向扩展宽度？# EE - 电子工程
h*e
1 楼
就是我按照手册中，Advanced Examples中的Poly-Buffered LOCOS(page 5-30)做了一
下模拟，
我采用了method viscoel，
material mat=oxide young.m=6.6e11 poiss.r=0.17
material mat=nitride young.m=3.89e12 poiss.r=0.3
然后，我加上visc.o, visc.e,visc.x等参数进去，程序就终止了，不知道什么原因。
还有，在material当中，我需要加上VC这个参数吗？这个是有关压力方面的参数。
因为我在后面的LOCOS的氧化过程中，温度是950度，
而手册只有900度，800度，1000度，和1100度的默认值。
那在950度的情况下，oxide和nitride的对应的VC值应该如何得到？
这个对鸟嘴的形状和宽度有影响吗？
通过上面模拟，我发现横向扩展还是有0.25um左右宽，
请问，如何获得更小的，比如0.1um的模拟结果？
注释：field oxide的厚度是3000A左右。
请高手指点一二！
下模拟，
我采用了method viscoel，
material mat=oxide young.m=6.6e11 poiss.r=0.17
material mat=nitride young.m=3.89e12 poiss.r=0.3
然后，我加上visc.o, visc.e,visc.x等参数进去，程序就终止了，不知道什么原因。
还有，在material当中，我需要加上VC这个参数吗？这个是有关压力方面的参数。
因为我在后面的LOCOS的氧化过程中，温度是950度，
而手册只有900度，800度，1000度，和1100度的默认值。
那在950度的情况下，oxide和nitride的对应的VC值应该如何得到？
这个对鸟嘴的形状和宽度有影响吗？
通过上面模拟，我发现横向扩展还是有0.25um左右宽，
请问，如何获得更小的，比如0.1um的模拟结果？
注释：field oxide的厚度是3000A左右。
请高手指点一二！
