ASML：下一代EUV光刻机将于2025年首次部署

2月15日，ASML发布2022年度财报。报告显示，ASML在2022年销售额达到212亿欧元，与2021年相比增长了13.8%，毛利率为49.7%。

ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink在年报中介绍，尽管2022年经历了很多动荡，但是ASML依旧取得了不错的成绩。预计到2025—2026 年，ASML将大幅提升产能，达到年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机。同时，在2027年到2028年，将增产20个高数值孔径EUV光刻机。

年报中对ASML最新光刻设备做了详细介绍。年报显示，最新一代的EUV 0.33 NA光刻系统TWINSCAN NXE：3600D，与前代产品TWINSCAN NXE：3400C相比，生产率提高了15%～20%，覆盖率提高了约30%，同时还提高了系统可用性。EUV 0.55 NA是下一代EUV光刻系统，相比较于EUV 0.33 NA而言有更高的分辨率。该系统预计将于2025年首次部署，将在2025—2026年开始支持大批量生产。EUV 0.55 NA光刻系统TWINSCAN EXE：5000已经在2022年收到了采购订单，预计该系统未来将达到每小时220片晶圆的生产率。

年报显示，2022年第三季度ASML推出了最新浸入式系统TWINSCAN NXT：2100i，该系统除了对透镜计量、光罩调节和晶圆表的内在改进以及对整体交叉匹配改进外，NXT：2100i还具有对准优化器12颜色包等创新。该系统能提供每小时295片晶圆的生产率，能够为3nm 及以下节点上的浸没层的提供最具成本效益的解决方案。在干式系统中，最新TWINSCAN NXT：1470双级ArF系统，可以打印分辨率低至220nm的图案，用于200mm和300mm晶圆生产，实现每小时330个晶圆的生产率。