第一届半导体先进封测产业技术创新大会圆满落幕！国内封测龙头企业齐聚厦门~

△于燮康副理事长

△庄咏宁一级调研员

△石慧霞书记

△于大全董事长

△张建超总经理

△张国平副院长

△阮文彪总监

于董在演讲中介绍了，云天半导体致力于半导体先进封装与系统集成，具备从4寸、6寸、8寸到12寸全系列晶圆级系统封装和精密制造能力。主要业务：WLP、FO、SiP、Module、IPD无源器件制造、高密度2.5D转接板（基于TGV技术）和高精度天线制造等，其中重点介绍了三维TSV互连封装技术。

演讲中，王教授从有限元分析的基本概念和原理出发，讨论封装热机械应力有限元分析中的模型建立、本构模型选择、材料参数测定等问题，并探讨处理复杂封装分析模型的方法、通过模型验证提升仿真精度、因素分析方法等，最后针对典型封装结构，给出其热机械应力分析应用的案例。

张源讲师介绍，伴随半导体工艺紧逼工程极限，相对电互连，光互连本身具备大带宽、长距传输等优势，而硅光的产业化推动了“光进铜退”的演进，使得光互连进封装（CPO）、进单板（NPO）成为了行业热点。她分析了CPO/NPO/LPO其价值及潜在应用场景。阐述行业主流企业CPO的研究历程及趋势，剖解其中关键技术。指明光电合封的产业链挑战，以及标准状况。

封装基板目前从封装方式主要分为WB BGA、WB CSP、FC BGA、FC CSP、SiP基板五大类。这五类基板的工艺路线主要为Tenting （减成法）、MSAP（改良半加成法）、ETS（埋入线路技术）、SAP（半加成法）四种。丁总在演讲中针对以上五类基板的应用领域，四种加工工艺的材料使用、设备选型、加工过程控制等问题展开探讨。

张总介绍，先进封装异构集成技术成为突破摩尔定律的重要手段，而高频、高速、高集成度的SiP模组对信号完整性、散热、应力等提出更高要求，SiP模组设计更需要EDA仿真工具提供准确可靠的技术支撑。一款高效、可靠、准确的EDA全物理场仿真工具可以大大缩短用户的SiP模组设计验证周期，提高用户设计的可靠性和准确性。

马主任介绍道，MEMS伴随着万物互连、智慧社会等发展，成为集成电路领域学术研究、商业化异常活跃方向，演讲综述了近年来先进封装技术以及MEMS集成制造领域新进展，结合讲者在声学MEMS器件研发工作探讨TSV/TGV互连、扇出型封装等先进封装技术为MEMS器件的设计开发带来的挑战、机遇。

兰总讲述，在2.5/3D先进封装领域，对介质薄膜的要求越来越高，阻挡金属扩散的能力是评价介质薄膜好坏的基本要求，所以选择符合工艺开发的优质介质薄膜至关重要，而对应合适并匹配的设备对于fab来说，更是性价比的最优体现。北方华创给出的解决方案高度适配该领域的需求，并快速占领该领域的国内市场，成为介质薄膜的解决方案供应商。

仰庶总监在演讲中介绍，盛美上海已成功为HDFO提供了多种解决方案,研发了相应的涂胶、显影、刻蚀、清洗等设备,为国内外封装客户提供了多种工艺支持,在2.5D封装先进制程方面，盛美上海结合前道湿法工艺经验,开发了深孔清洗、背面清洗、刻蚀后清洗等一系列解决方案。

演讲中，彭总结合先进封装技术需求，简要介绍先进封装凸点（bump）工艺、RDL工艺及TSV工艺电镀技术，实现高深宽比填孔、高均匀度、高可靠性，并提出高电流密度解决方案；结合3D IC技术需求，介绍化学机械抛光技术及其清洗技术，实现高选择比、低缺陷解决方案。

演讲中，张国平副院长从集成电路先进封装材料以及关键原材料出发展开，围绕材料的关键物性要求和工艺挑战等进行分析，系统性论述了集成电路先进封装材料的发展现状，并对这些关键材料的发展趋势也作出一定的展望。

随着通信行业的发展，在信号传输速率越来越快的同时带来的信号损耗也急剧变大。如何保证通信系统中信号的有效传输变成了一个重要的问题。演讲中，朱工对通信系统各个部件的材料影响进行分析，结合实际案例，介绍了材料在通信系统中的影响因素和仿真设计方案。

杨教授在演讲中，主要介绍电子制造中的电镀与化学镀原理与技术。从电镀和化学镀原理出发，理论角度认识电镀/化学镀的基本工艺过程及实质，正确分析在实验室研究和实际工业生产中可能出现的问题并建立控制/调控方法，深刻理解电子电镀（电镀/化学镀）特征、工艺过程、控制方法及关键技术与科学问题。

△汤加苗总经理

△刘耕董事会秘书

△马书英总监

李总监介绍，蚀刻工艺是整个先进封装的技术中的重点和难点。主要难点一方面是高深宽比 (AR大于30:1)蚀刻的形貌控制；另一方面的难点是TSV内Cu填充后的背面漏出的刻蚀技术，涉及到颗粒污染控制、成本控制和量产稳定性等各种挑战。目前北方华创已在多家客户实现TSV工艺、背面Cu漏出工艺及其他多道蚀刻工艺的稳定量产。

阮总监介绍，云天成功开发了TGV和IPD制造技术，达到国际先进水平。另外，云天开发包括高深宽比玻璃通孔、金属填实和多层RDL的TGV转接板，可用于Chiplet系统级封装。同时，研究多芯片集成技术，开发晶圆级扇出型封装(WL-FO)工艺，在模塑料FO和玻璃衬底FO等方面取得进展。

演讲中，刘主任介绍了生益科技开发的系列胶膜材料，包括增层胶膜、Molding胶膜、感光胶膜、磁膜以及临时键合胶膜的开发进展及其应用案例，并结合国家电子电路基材工程技术研究中心完备的可靠性测试、电性能测试等的测试能力，同时，介绍了生益开发SIF系列材料的软硬件优势。

汤总经理在演讲中介绍道，为满足高性能计算机等高端应用的需求，业界对高端封装基板提出了提高布线密度、减小线宽线距、减小尺寸与重量，改善热性能的要求。高端封装基板的研究方向主要有工艺改进、精细线路，以及倒装芯片球栅格阵列封装基板（FCBGA）、大尺寸高密度封装基板、有源无源器件的埋入基板等。

李先生介绍，亚智科技近年已将黄光制程、自动化、电镀等设备实践在先进封装技术领域，为客户规划整体的产线。新一代板级封装 RDL生产线的优势—不仅提升生产效率，同时也兼顾成本及性能。Manz还为客户提供完整的RDL生产设备及整厂工艺规划服务协助客户打造高效整厂交钥匙生产设备解决方案。

演讲中，褚总监介绍了奥首用于先进封装领域的解决方案，包括光刻胶剥离液、湿法蚀刻液以及晶圆激光开槽与激光全切专用的保护液产品。从先进封装痛点问题与所介绍产品的相关性角度阐述，介绍基本原理，创新性技术以及解决相关痛点问题带来的益处，最后还将分享未来产品技术发展方向的思考。

仰总监介绍道，为了满足AI、5G以及物联网等超薄、多层芯片堆叠的需求提升，IC制造商已经转向先进封装解决方案，比如临时键合和解键合工艺技术，以便在减少空间占用的情况下实现高密度集成，同时提升芯片性能。同时也介绍了临时键合和激光键合工艺在先进封装领域的应用。

先进封装主要利用光刻工序实现线路重排（RDL）、凸块制作及三维硅通孔（TSV）等工艺技术，涉及涂胶、曝光、显影、电镀、去胶、蚀刻等工序。冼总表示，国内还有一项半导体产业也在蓬勃发展--功率半导体,因汽车电动化大势所趋，功率半导体深度受益，车规芯片产品逐步走向中高端，而碳化硅器件厚积薄发，国内布局多点开花。

陈经理说，盛美上海成功解决大翘曲晶圆在传输和工艺夹持中的难题，开发出高速电镀、特殊控制搅拌桨、六元合金弹性触点等先进单片式电镀技术/专利，在提高电镀沉积速率的同时较好的控制了电镀均匀性，银含量等参数，保证品质并帮助客户提升产能。此外，盛美上海还提供匀胶、显影、去胶、腐蚀及清洗等全套先进封装湿法设备解决方案。

演讲中，戴总讲述了EMI PVD电磁屏蔽于SIP或其他封装的应用与基本要求、设计的基本要领；也介绍了鸿浩EMI PVD开发状况、设备规格、优势；以及鸿浩EMI PVD其他应用。

演讲中，张总探讨封装全球市场规模及发展趋势，将先进封装良率提升作为讨论重点，对多种封装制程工艺及材料综合论述，提出整体解决方案。随着SiP、TSV、2.5D/3D、FC、RDL等工艺的飞速发展，如何应对复杂多变的空洞问题提升封装良率？屹立芯创带来封装缺陷（空洞/气泡）问题及气泡消除理论分析。

王主任介绍，传统SoC系统级芯片成本高、产量低，其相关技术的突破成本和可靠性挑战巨大，基于2.5D/3D先进封装技术的芯粒集成可以有效解决这一问题。中科芯微系统制造平台以扇出型先进封装技术为工艺主线，具备RDL 2.5D、TSV 2.5D和3D堆叠等高密度集成能力，可以有效支撑后摩尔时代对大算力和高带宽产品的集成需求。

马总监在演讲中详细介绍了先进封装技术的发展史，包含WLP，Fan-out，2.5D/3D IC等，阐述代表型先进封装技术的特点和应用领域，介绍先进封装的市场情况，同时也介绍了华天科技在先进封装的布局，包含TSV，fanout，3D SiP，助力中国半导体封测行业的发展。

张总监介绍，以ChatGPT为代表的生成式AI和数据中心的高速度低延时低功耗低损耗让CPO光电共封装走向大众视野。FAU、V-grooving、Micro lens、Micro Hole等结构和器件大量应用于CPO领域。 圭华智能专注于提供以激光为基础的整体解决方案，在激光器、激光光学、激光光学、软件、精密运动控制平台和控制系统以及激光化学领域深度交叉融合，为客户提供解决方案。

谢经理介绍，中国电科45所是专门从事半导体关键工艺设备技术、设备整机系统以及设备应用工艺研究开发和生产制造的国家重点科研生产单位，打造集成电路装备原创技术策源地，发挥研究中心作为国家战略科技力量的重要关键作用，特别在半导体湿制程设备方面积极布局，推动我国集成电路装备创新发展。

△展区图

△展区图

△听众合影图

△签到区图

△现场抽奖图

△现场抽奖图

△晚宴图

△晚宴图