半导体“皇冠上的明珠”何以疯狂？光刻机概念股透视

近期，作为半导体工业“皇冠上的明珠”，国产光刻机产业链上的概念股吸引了二级市场投资者前所未有的关注。

正因如此，A股“光刻机”概念股的股价此起彼伏，相关上市公司频繁受到资本的关注。9月21日，软包装复合胶粘剂龙头高盟新材（300200.SZ）大幅上涨16.19%，盘中一度20CM涨停。

高盟新材9月14日在投资者互动平台表示，公司业务没有涉及光刻机，但公司投资参股了光刻胶项目公司，其中，公司参股北京科华微电子材料有限公司比例为3.67%，参股北京鼎材科技有限公司比例为1.39%，北京科华是国内半导体光刻胶领域的头部企业，北京鼎材是OLED发光材料和面板显示光刻胶领域的优秀企业。

根据记者不完全统计，投资者在互动易平台询问相关上市公司光刻机相关业务的动态高达数百条，光刻机市场的动态牵动着资本市场的神经。

对于光刻机市场，中航证券指出，半导体行业十年翻倍，晶圆厂积极扩产，叠加芯片性能升级，光刻强度上升，预计5nm逻辑芯片的光刻支出占比达35%，光刻工艺的重要性愈发凸显，市场规模快速增长，预计2024年有望达到230亿美元，ASML（荷兰光刻机巨头）在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光刻机进口约40亿美元，主要从日本、荷兰进口，出口管制下光刻机存在断供隐忧，自主可控势在必行。

据悉，光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光学系统、机械系统和控制系统构成。而光刻是芯片制造的核心环节，因此，国内光刻机的发展动态也倍受投资者关注。

根据光大证券研报数据，全球光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家把持。目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新。

三家企业光刻机出货量由2015年的281台增长至2022年的551台，CAGR达10.10%；销售收入由2019年的945亿元增长至2022年的1318亿元，CAGR（年均复合增长率）达11.73%。其中ASML占据绝对的龙头地位，垄断高端EUV市场。

其中，Canon在低端光刻机市场占据优势地位，主要集中在i-line光刻机；Nikon在光刻机产品类型覆盖较广，在除EUV之外的类型均有涉及，其中以ArF和i-line光刻机领域较为突出，但在出货量上远少于ASML和Canon。

具体来看，中航证券研究所数据显示，从早年美国GCA+PerkinElmer把持，到如今仅剩荷兰ASML+日本Nikon/Canon，美国光刻机企业退出历史舞台。后入局的上海微电子主要在封装环节，前道光刻机小批量出货。当前，光刻机市场份额集中度很高，ASML占据全球八成以上的市场。

浸没式的成功和EUV的飞跃，使ASML几乎垄断高端市场。全球仅ASML能生产高端EUV，浸没式DUV也仅ASML与Nikon出货，2022年ASML出货占95%，在ArF和KrF光刻机的份额也高达88%/72%。低端i线光刻机上，Canon出货占比较高。

相比较之下，国产光刻机的发展与国际先进水平差距仍较大。

光大证券研报指出，上海微电子是中国大陆光刻机进展最快的厂商，其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面，上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大。上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的最高可实现90nm制程节点，ASML的EUV3400B制程节点可达到5nm。这也使得在IC前道光刻机市场，国产化率较低，国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。

国产亟待突破

作为芯片制造领域的重要设备之一，光刻机的动态进展格外受到关注。

据悉，国内光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产及下游光刻机应用三大环节。光大证券研报梳理指出，其中，光刻机元器件上游国内代表企业包括福晶科技、国望光学、赛微电子、科益宏源、国科精密、炬光科技、奥普光电等；中游光刻机系统制造代表企业为上海微电子；下游光刻机应用代表企业为中芯国际。

近期，A股多家上市公司在互动易等平台上对外介绍自身在光刻机或半导体领域的布局。

9月18日，炬光科技（688167.SH）回答投资者关于光刻机供应产品相关问题时表示，公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器，供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备；近年来光场匀化器产品也应用于国内主要光刻机研发项目和样机中。

9月15日，大族激光（002008.SZ）在互动易上回答投资者提问时称，公司光刻机项目主要应用在分立器件领域，分辨率3-5μm；其中，接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化，公司将根据市场需求及业务发展情况持续制定研发计划，并加大研发核心部件国产化。

9月14日，芯碁微装（688630.SH）也表示，围绕自身技术优势，结合行业发展趋势，持续进行研发创新和产品迭代，满足国内外客户对直写光刻设备的需求。公司130-90nm晶圆制版光刻设备研制及产业化项目已于2022年上半年验收，能够实现最小线宽350nm、CD均匀度10%，产能120min/片，设备性能优异。

中航证券判断，光刻机作为高壁垒、重资本、高风险的行业，其发展必将借助“举国体制”之力，重点关注上海微电子和几大院所的研究进展，以及其控股/参股的资产，或有光刻机成果注入的预期。

光刻机产业化渐近，零部件投资先行，中航证券测算国内零部件市场空间约150亿元，市场空间大、技术关键性强。

王石：市场都有周期，就看最后的坚持