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浮栅晶体管发明者,施敏博士的半导体人生

浮栅晶体管发明者,施敏博士的半导体人生

科技

“没有这个发明,你的相机还须用底片呢!”


这句话,出自著名的半导体器件专家施敏之口,而他所说的发明,正是今天无处不在的闪存。


中国工程院官方网站上对他的成就介绍中写道:在半导体设备,尤其是半导体接触,微波器件和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)技术的研发中,施敏博士的贡献具有奠基性和开创性的意义。


在施敏参与研发的多项技术里,最著名的当属非易失性半导体存储器(NVSM),在这一发明的基础上,诞生了今天包括闪速储存器和电可擦只读储存器(EEPROM)在内的大量储存设备,NVSM的问世,促成了功能更为强大的信息储存技术的发展,小到一张TF卡,大到服务器的数以千计的硬盘,都离不开他的发明创造。



这位半导体教父,于2023年11月6日与世长辞,享寿87岁,施敏这一生,见证了半导体在世界范围内跌宕起伏的发展历程,而他的贡献,也会永远被我们铭记和怀念


浮栅技术的发明者


1936年,施敏出生于南京,不久后跟随父亲来到中国台湾。1957年毕业于台大电机系,随后赴美深造,1963年获斯坦福大学电机博士学位。毕业后进入贝尔实验室工作(Bell Laboratories)。也就是肖克利发明晶体管的地方,肖克利难以相处的个性让英特尔创办人戈登·摩尔及罗伯特·诺伊斯离职并创立仙童半导体,不过,当时贝尔实验室依旧是半导体人才的摇篮。


当时主流存储还是磁芯存储器,但磁芯存储器体积大又耗电,取代磁芯存储器将可大幅提升计算机效能,施敏在贝尔实验室的同事,美籍韩裔科学家姜大元率先研发出金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET),至今仍被广泛应用于集成电路中。


金属氧化物半导体场效应晶体管的「金属氧化物半导体」是指晶体管中的栅极(gate)的材料是由一层金属、一层绝缘的氧化物及半导体所构成。但这项发明并不足以取代磁芯存储器,因为数据并不能长久保存在里面。


1967年1月的某天,施敏和同事共进午餐的时候,谈论到了怎么样改进由王安所发明的磁芯存储产品的话题。或许是灵光乍现,或许是积思所得,受到当时摆在餐桌上的蛋糕和三明治的启示,他脑海里浮现了“浮栅”FGMOS(Floating Gate MOSFET)的结构——两片面包夹着一片火腿肠。


因为当时所处环境的特殊性,施博士这一伟大构思,甚至只能简单地勾画在餐桌上的几张毫不起眼的面巾纸上。在草草地填饱了肚子之后,施敏和同事连夜开始赶制样品,他们在氧化层中间再加入一层金属层,使晶体管的栅极由上而下分别为金属、氧化层、金属(也就是浮栅)、一层较薄的氧化层以及最下面的半导体。中间的金属层,由于上下都是绝缘的氧化层,因此电荷可以被保留,这便是浮栅存储效应。


第一个器件出来之后,一经测试,所有的数据完全符合他们最初的预计和构想。这一发明在当年就被发表在《贝尔系统技术》杂志上,只可惜当时大家关注的重心全在DRAM之上,这项技术并未受到业界重视。


直到1983年,日本任天堂发布了FC游戏主机,在游戏卡带之上采用了这项技术,玩家们终于可以记录游玩记录,挑战Boss失败后也可以从存档点再次开始,非挥发性存储开始为大家所熟知。1984年,非挥发性存储被用于个人电脑的BIOS,揭开了闪存业的新篇章,施敏作为技术的发明者,迅速成为半导体行业的焦点。


施敏的成就不止于此,在非挥发性存储还未得到重视前,他在1967-1969年间撰写了《半导体元件物理学》,起先用于中国台湾交通大学电子研究所上课讲义,很快也受到了全球瞩目,翻译为6国语言,发行超过300万册,被誉为「半导体界圣经」


由于开创性的技术与杰出的教学,施敏在2017年被国际电机电子工程师学会IEEE推举为尊荣会员(Celebrated Member),此奖项全球仅9人获得,其中包括诺贝尔物理学奖得主江崎·里奥(Leo Esaki)、赫伯特·克罗默(Herbert Kroemer)和乔治·史密斯(George E. Smithm),也包括了摩尔定律之父——戈登·摩尔(Gordon E Moore)。


奠定半导体蓝图


除了技术上的贡献,施敏在今日中国台湾半导体业的蓝图中也居功甚伟。


早在1966年,施敏就向美国贝尔实验室申请5次留职停薪,返回中国台湾而在台湾交通大学、台湾大学、台湾中山大学等学校开班授课,并培育了中国台湾最早的4位工学博士(张俊彦、陈龙英、褚冀良以及苏翔),对中国台湾半导体人才的启蒙及教育具有非常大的影响。


到了1970年代,中国台湾经济起飞的前夜,在孙运璿策划下,中国台湾半导体产业蓝图逐渐成形。那时,施敏应孙运璿之邀,加入到了“经济部发展集成电路计划工作小组”当中,而他所提出的最关键建言,就是力荐孙运璿要推动半导体业。


“当时这个小组给孙运璿的建议是,中国台湾没有地下资源、矿产稀少,唯一可以好好发展的资源就是脑力。半导体绝对是最新的高科技,未来发展前景看好,建议应该要发展IC产业。”施敏在台媒的访谈中表示。


正是这番话,坚定了孙运璿发展中国台湾半导体业的决心,也才会有后来向美国半导体厂RCA的技术转让,引进集成电路技术的发展,创立今日的台积电。后来,施敏又以工研院的前瞻科技指导委员会的身份,成了中国台湾半导体产业发展的重要顾问,


施敏在访谈中笑着谈到:“我真的把能给的建议都给光了。”



如果说没有施敏当年对孙运璿的建言,可能就没有中国台湾半导体业产值超过3万亿元的荣景;如果没有施敏当年发明闪存,可能就没有今日的智能手机和数码相机,正是闪存成为半导体广为应用的技术,才让庞大的数据存储演变成一块指甲盖大小的芯片,胶片相机也因而成了跟随时代消逝的浪花,柯达公司只能黯然宣告破产。


科技演进之迅速,看在施敏眼中,他很感慨,“我认为最棒的发明就是手机,但我最不喜欢的发明也是手机,因为智能手机坏了全球的眼睛。”他说。


值得一提的是,2002年初,全球半导体市场竞争激烈,中国台湾半导体产业尤其是晶圆代工受到较大冲击,而为了开拓市场、扩大经营,中国台湾以联电和台积电两家最大的晶圆厂为首,积极呼吁当局以双赢为目的,开放8英寸晶圆赴大陆投资设厂。


彼时,施敏以毫微米实验室(纳米元件实验室的前身)主任身分赴立法院答询,当时正值各方政治势力对8英寸晶圆厂应否开放赴大陆投资争论不休时,施敏被问及对此议题的看法时毫不保留指出,8英寸晶圆厂两年前就应该在大陆建厂,再不让台积电、联电8英寸晶圆厂西进,恐怕两家公司日后都无法生存下来。


施敏慷慨陈词的率直,与另一位出身台湾交大教授的官员形成强烈对比,不愧为大师风范。


缅怀


如今,施敏已经与世长辞,而他的非凡一生以及对电子和半导体元件世界的贡献,也会被我们永远铭记和珍惜。


我们也不妨回顾一下,在2021年未来科学大奖颁奖典礼上,施敏对年轻学生的寄言:


“我也想借这个机会鼓励一下我们年轻的同学。我看了一下过去那么多年来,几乎最重要的发明都是年轻人做的,因为年轻人脑力很强,不但有很强的发明能力,同时也有发现能力。举个例子好了,刚才有提到像爱因斯坦的 E=mc²,他 26 岁的时候就做出来了;像 Noyce 在发明集成电路的时候也只有 32 岁;像爱迪生发明电灯泡的时候也刚过 32 岁。像我做 ohmic contact(欧姆接触)讨论或者是做 floating-gate(浮栅)讨论,那时候我也只有 31 岁左右,所以我希望年轻人能够在这方面对科学发生兴趣,而且借大奖的鼓励使他们了解未来科学的重要性,希望能够给人类带来更多的福祉……”


内容参考:中国侨网、今周刊、未来科学论坛等


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