12.9亿美元，日本加大对美光EUV晶圆厂补贴力度！

EUV 光刻技术来到日本。

据《日经新闻》报道，日本经济产业省正在将对美光广岛工厂的补贴从 3.2 亿美元增加到 12.9 亿美元 。此次增产确保了该公司按时建设晶圆厂。对于日本政府来说，这笔赠款是更广泛计划的一部分，该计划包括向各种芯片公司投资数十亿日元，旨在增强日本的半导体实力。 

几乎一年前，美光为其位于广岛的工厂筹集了 3.2 亿美元的资金 。与此同时，美光对新生产设施的总投资预计约为 5000 亿日元（36.18 亿美元）。虽然 3.2 亿美元是一大笔钱，但考虑到美光科技与 2022 年水平相比资本支出有所减少，这可能还不够。据《日经新闻》报道，美光科技和日本政府似乎已就增加补贴达成协议。  

美光计划到 2026 年开始使用依赖于极紫外 (EUV) 光刻的 1γ 工艺（第三代10纳米级节点）大批量生产复杂的存储芯片，因此该公司需要尽快获得资金。 

该部的愿景不仅限于美光科技。为期两年的2万亿日元（133.85 亿美元）的庞大预算明确用于与半导体投资相关的补贴。扩大网面，中国台湾台积电将为其熊本工厂运营获得高达 4760 亿日元（31.857 亿美元）的资金。此外，铠侠与位于三重县的美国西部数据公司之间的合作得到了价值 929 亿日元（621.72 美元）的补贴的支持。

此次对半导体公司的巨额资金注入突显了日本致力于减少对海外芯片供应商的依赖并重建国内半导体行业的承诺。日本旨在通过加强国内能力来规避与国际供应链中断相关的潜在风险，从而确保关键技术部件的平稳和强劲的内部供应。

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